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हमने असंतुलित मैग्नेट्रॉन (यूबीएम) स्पटरिंग विधि द्वारा गठित 10.9% से कम नाइट्रोजन सांद्रता वाले नाइट्रोजन-डोप्ड नैनोकार्बन फिल्म इलेक्ट्रोड का अध्ययन किया।नाइट्रोजन-डोप्ड यूबीएम स्पटरिंग नैनोकार्बन फिल्म (एन-यूबीएम फिल्म) में एसपी(3) सामग्री नाइट्रोजन सांद्रता बढ़ने के साथ थोड़ी बढ़ जाती है।नाइट्रोजन युक्त ग्रेफाइट जैसा बंधन कम हो जाता है और नाइट्रोजन सांद्रता बढ़ने के साथ पाइरीडीन जैसा बंधन बढ़ जाता है।एन-यूबीएम फिल्म में 0.1 से 0.3 एनएम की औसत खुरदरापन के साथ एक बहुत चिकनी सतह होती है, जो नाइट्रोजन एकाग्रता से लगभग स्वतंत्र होती है।एसपी(3) सामग्री में मामूली वृद्धि के कारण एन-यूबीएम फिल्म इलेक्ट्रोड शुद्ध-यूबीएम फिल्म इलेक्ट्रोड (3.9 वी) की तुलना में व्यापक संभावित विंडो (4.1 वी) दिखाता है।नाइट्रोजन सांद्रता बढ़ने के साथ इलेक्ट्रोकैटलिटिक गतिविधि में वृद्धि हुई, जिससे पता चलता है कि इलेक्ट्रोएक्टिविटी अधिकतम होती है जब नाइट्रोजन एकाग्रता लगभग 10.9% होती है, जिसकी पुष्टि Fe(CN)6(4-) के चरम पृथक्करण से होती है।एन-यूबीएम फिल्म इलेक्ट्रोड पर हाइड्रोजन पेरोक्साइड (H2O2) की कटौती क्षमता लगभग 0.1 V स्थानांतरित हो गई, और H2O2 की चरम धारा लगभग 4 गुना बढ़ गई।